• 光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備賴進(jìn)口，且國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程整體較慢。?隨著中國(guó)大陸代工廠的不斷擴(kuò)建，未來(lái)對(duì)于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的需求不斷提升，而當(dāng)前國(guó)內(nèi)與國(guó)外頂尖光刻機(jī)制程仍存在較大差距，國(guó)產(chǎn)光刻...2022-11-22 08:50:23
• 投影式光刻機(jī) Projection Photoetching Machines投影式光刻機(jī)一般采用步進(jìn)-掃描式曝光。光源并不是一次把整個(gè)掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統(tǒng)通過(guò)一個(gè)狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，如1（a）所...2017-12-29 09:04:54
• 中國(guó)大陸將迎來(lái)首臺(tái)EUV光刻機(jī)第二束光，系統(tǒng)光路設(shè)計(jì)上改動(dòng)比較小，光刻機(jī)工程化應(yīng)用相對(duì)容易，有希望使國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)在高端領(lǐng)域彎道超車、有所突破。...2017-10-25 09:28:40
• URE-2000/25型光刻機(jī)操作說(shuō)明以及特性介紹URE-2000/25?型深度光刻機(jī)，?是在?URE-2000A?和?URE-2000B?基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)?成功的，其主要特點(diǎn)是：?燈源采用?200W?交流...2017-10-24 11:32:15
• 面對(duì)壟斷，自主研發(fā)高端光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化替代勢(shì)在必行更多汶顥微流控技術(shù)公司實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備（www.fushanstone.com）的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)及進(jìn)口光刻膠等產(chǎn)品耗材。?...2017-08-10 14:36:55
• 28nm節(jié)點(diǎn)浸沒(méi)式光刻機(jī)核心部件之一浸液系統(tǒng)入駐杭州青山湖科技城什么是光刻機(jī)？高端光刻機(jī)是集成電路配備中技能難度最高的關(guān)鍵設(shè)備，因此也被稱為人類技能開(kāi)展的制高點(diǎn)和制作工業(yè)“皇冠上的明珠”。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML...2017-08-08 16:38:10
• 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制出實(shí)用深紫外光刻機(jī)工工藝中，光刻機(jī)所采用的波段是決定光刻分辨力的重要因素之一。長(zhǎng)期以來(lái)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)均采用紫外波段（350nm至450nm），分辨力只能做到1μm以上。而...2017-07-28 16:03:16
• 光刻機(jī)的曝光模式積缺陷；上個(gè)世紀(jì)七十年代的工業(yè)水準(zhǔn)，已經(jīng)逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)均為接觸式曝光，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的開(kāi)發(fā)機(jī)構(gòu)無(wú)法提供工藝要求更高的非接觸式曝光...2016-12-08 14:34:46
• 光刻機(jī)的簡(jiǎn)單介紹等。對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)制造高精度的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)需要具有近乎完美的精密機(jī)械工藝，這也是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)望其項(xiàng)背的技術(shù)難點(diǎn)之一，許多美國(guó)德國(guó)品牌光刻機(jī)具有特殊專利的機(jī)械工藝設(shè)...2016-04-18 11:54:16
• 光刻機(jī)的“曝光模式”分類積缺陷；上個(gè)世紀(jì)七十年代的工業(yè)水準(zhǔn)，已經(jīng)逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)均為接觸式曝光，目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的開(kāi)發(fā)機(jī)構(gòu)無(wú)法提供工藝要求更高的非接觸式...2015-02-13 15:49:15