a.接觸式曝光（Contact Printing）：

       掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設(shè)備簡單。接觸式，根據(jù)施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。

       1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似于勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；

       2.硬接觸 是將基片通過一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；

       3.真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）軟<硬<真空 接觸的越緊密，分辨率越高，當然接觸的越緊密，掩膜和材料的損傷就越大。

       缺點：

       光刻膠污染掩膜板；掩膜板的磨損，容易損壞,壽命很低（只能使用5～25次）；容易累積缺陷；上個世紀七十年代的工業(yè)水準，已經(jīng)逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國產(chǎn)光刻機均為接觸式曝光，目前國產(chǎn)光刻機的開發(fā)機構(gòu)無法提供工藝要求更高的非接觸式曝光的產(chǎn)品化。

       b.接近式曝光（Proximity Printing）:

       掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm。可以有效避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩模壽命長（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式光刻由于設(shè)備價栺適中，且光刻效果可以滿足多種需求，在現(xiàn)代光刻工藝中應用最為泛，國外及臺灣的光刻機生產(chǎn)商大都擁有該技術(shù)。

       c.投影式曝光（Projection Printing）:

       在掩膜板與光刻膠之間使用光學系統(tǒng)聚集光實現(xiàn)曝光。一般掩膜板的尺寸會以需要轉(zhuǎn)秱圖形的4倍制作。優(yōu)點：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影響減小。