• SU-8光刻膠去膠液SU-8去膠液2020-07-07 11:18:26
• 微流控中的烘膠技術(shù)130°C，而在正膠情況下，當(dāng)堅(jiān)膜溫度達(dá)到150 - 160℃時(shí)，常見(jiàn)的去膠液或有機(jī)溶劑的去膠能力大大降低；交聯(lián)的負(fù)阻在130 - 140℃時(shí)去膠液效...2025-01-07 10:20:54
• 光刻膠去膠工藝不是很容易實(shí)現(xiàn)的步驟。這里我們稱用于去除光刻膠的溶劑或者溶液為去膠劑或者去膠液、除膠劑，lift-off工藝中我們也稱之為剝離液。光刻膠薄膜的溶解度非...2024-07-05 09:43:47
• 微流控芯片一般光刻工藝過(guò)程光刻膠有腐蝕作用的溶液將光刻膠溶解或者腐蝕掉，從而達(dá)到去膠的目的，這里，去膠液的選擇需要遵循與襯底反應(yīng)或者不損傷襯底為前提條件。干法去膠是利用氧等離子...2024-07-04 09:13:40
• 光刻膠的硬烘烤技術(shù)工藝結(jié)束后去除。在正膠的情況下，在堅(jiān)膜溫度達(dá)到150–160℃時(shí)，常見(jiàn)的去膠液或有機(jī)溶劑的去膠能力大大降低，交聯(lián)的負(fù)阻已經(jīng)在130–140℃時(shí)去膠液效...2024-07-01 11:48:28
• 光刻膠成分及用途特殊工藝用膠。④．配套試劑（Process chemicals）顯影液、去膠液、稀釋劑、增附劑（粘附劑）、定影液等。4.光刻膠成分光刻膠一般由4部分組...2017-10-31 17:26:19
• 基于電化學(xué)刻蝕與微電鑄工藝.1g/L）。（2）去膠。將制作完成的試驗(yàn)片使用SU-8 Remover去膠液去膠。（3）剪切力測(cè)量。采用剪切法 測(cè)量各試驗(yàn)片鑄層與基底的剪切力， 計(jì)...2017-10-10 08:38:48
• 微納加工- 玻璃芯片工使用到的試劑與耗材有：鉻版玻璃、掩膜、正性光刻膠、顯影液、玻璃刻蝕液、去膠液。3.汶顥股份提供微流控玻璃芯片加工、設(shè)計(jì)及定制服務(wù)項(xiàng)目標(biāo)配（其他尺寸可...2017-10-09 16:38:00
• 光刻膠及光刻工藝流程圖形套刻準(zhǔn)確汶顥股份提供AZ系列光刻膠和SU-8系列光刻膠及相關(guān)顯影液、去膠液等相關(guān)產(chǎn)品。歡迎來(lái)電咨詢光刻膠價(jià)格。...2017-08-23 10:15:02
• 正負(fù)性光刻膠分類限公司提供AZ 光刻膠（正膠）系列和SU-8光刻膠（負(fù)膠）系列，另外相關(guān)去膠液、顯影液有售。原裝進(jìn)口，品質(zhì)保證！0512-62525802 來(lái)電咨詢光...2017-08-22 13:05:14