• 紫外光源：曝光系統(tǒng)最核心3 nm）和F2準(zhǔn)分子激光（157 nm）等。 ?????? 曝光系統(tǒng)的功能主要有：平滑衍射效應(yīng)、實(shí)現(xiàn)均勻照明、濾光和冷光處理、實(shí)現(xiàn)強(qiáng)光照明...2015-01-30 16:11:16
• 光刻膠的一般特性介紹resolution）是一個(gè)綜合指標(biāo)。影響分辨能力的因素有3個(gè)方面：①曝光系統(tǒng)的分辨率；②光刻膠的相對(duì)分子質(zhì)量、分子平均分布、對(duì)比度與膠厚；③顯影條...2024-07-10 09:14:55
• 微流控芯片一般光刻工藝過(guò)程來(lái)進(jìn)行再吸水，從而達(dá)到更優(yōu)的性能。4. 曝光曝光的完成是通過(guò)曝光掩模和曝光系統(tǒng)，如步進(jìn)式（i-線的，g-線）掩模對(duì)準(zhǔn)式或接觸式曝光系統(tǒng)在各自的光譜工...2024-07-04 09:13:40
• 微流控芯片制造工藝（下）1)優(yōu)化鏡片(改變sinθ)在曝光波長(zhǎng)縮短的同時(shí)，鏡頭設(shè)計(jì)的改進(jìn)也導(dǎo)致曝光系統(tǒng)鏡頭的數(shù)值孔徑(NA)得到改善，見(jiàn)圖 。在八十年代中期，NA 值約為 ...2024-06-25 08:47:32
• 微流控芯片制造工藝（上）3 掩膜集成電路制造所用的掩膜通常是縮小倍數(shù)的掩膜。制作掩膜是用電子束曝光系統(tǒng)將圖形直接轉(zhuǎn)移到對(duì)電子束敏感的掩膜上。掩模由鍍鉻玻璃板組成。電路圖形首...2024-06-24 09:25:22
• 光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備? ? ? ??光刻機(jī)(lithography)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版...2022-11-22 08:50:23
• 光刻技術(shù)圖形轉(zhuǎn)移工藝二：光刻材料及設(shè)備影響光刻的質(zhì)量。因此要有高的成品率，就必須制作出高質(zhì)的光刻掩膜版。3.曝光系統(tǒng)曝光機(jī)?將光刻掩膜版與涂上光刻膠的晶圓片對(duì)準(zhǔn)，用一定波長(zhǎng)的紫外光經(jīng)過(guò)光...2018-06-07 08:41:19
• 投影式光刻機(jī) Projection Photoetching Machines般采用步進(jìn)-掃描式曝光。光源并不是一次把整個(gè)掩模上的圖形投影在晶圓上，曝光系統(tǒng)通過(guò)一個(gè)狹縫式曝光帶（slit）照射在掩模上，如1（a）所示。載有掩模...2017-12-29 09:04:54
• 光刻膠成分及用途膠的分辨率是一個(gè)綜合指標(biāo)，影響該指標(biāo)的因素通常有如下3個(gè)方面：(1) 曝光系統(tǒng)的分辨率。(2) 光刻膠的對(duì)比度、膠厚、相對(duì)分子質(zhì)量等。一般薄膠容易得...2017-10-31 17:26:19
• TSP Sheet Exposure System觸摸屏用Sheet曝光機(jī)是觸摸屏及LCD制造技術(shù)所需要的大面積曝光系統(tǒng)，是可實(shí)現(xiàn)微細(xì)線寬和高生產(chǎn)率的產(chǎn)品。Sheet曝光機(jī)產(chǎn)品的優(yōu)秀性不僅能讓客戶(hù)的Needs得到滿足，而且在開(kāi)發(fā)下一代觸摸屏方面，也發(fā)揮主導(dǎo)作用...2017-10-30 17:25:31